در فرآیند لیتوگرافی، وجود نقاط داغی با دمای ۰.۵ درجه سانتیگراد روی ویفر، میتواند کنترل ضخامت خطوط روی سطح ویفر را مختل کند؛ همچنین این امر میتواند باعث کاهش بازدهی تولید شود. منبع نور مورد استفاده در این دستگاه، صرفاً یک قطعه سختافزاری نیست؛ بلکه نقش مهمی در شکلدادن به میدان حرارتی دارد که باعث میشود فرآیند تولید تکرارپذیر باشد.
ما این منبع نور را به گونهای طراحی کردهایم که یکنواختی حرارتی در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد را حفظ کند؛ به این ترتیب، پروفایلهای حرارتی مربوط به فرآیندهای پخت ویفر، دقیقاً مطابق با دستورالعملهای تعیینشده عمل خواهند کرد.
در این دستگاه، از یک منبع نور کوارتزی با خلوص بالا استفاده شده است؛ همچنین روکشهای مخصوصی بر روی آن وجود دارد که برای امواج مادون قرمز کوتاه و متوسط مناسب هستند. این امر باعث توزیع یکنواخت انرژی میشود و از اختلالات ناشی از تغییرات حرارتی جلوگیری میکند.
این دستگاه سازگار با اتاقهای تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ است؛ همچنین از موادی با میزان گازخروجی کم ساخته شده است و سطح آن به گونهای طراحی شده که تولید ذرات در آن نزدیک به صفر باشد. این دستگاه قادر به کار ۲۴ ساعته بدون هیچ توقفی است؛ همچنین، توان خروجی آن در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار، کمتر از ۵٪ تغییر خواهد داشت.
در فرآیند لیتوگرافی، یکنواختی حرارتی، همراهیکننده مهمی برای کنترل دقت ابعاد ویفر است. با وجود یکنواختی حرارتی در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد، میتوان از ایجاد نقصهای ناشی از تغییرات حرارتی جلوگیری کرد.
ساختار تمیز این منبع نور، باعث کاهش کارهای تکراری، کوتاهتر شدن زمان تستها و کاهش مصرف انرژی میشود؛ زیرا گرما در محل مورد نیاز تمرکز میشود. این امر در فرآیند پردازش فوتورزیست، منجر به کاهش تعداد ویفرهای اضافی و افزایش بازدهی تولید میشود.
نصب این دستگاه به جهت قرارگیری لامپ و جریان هوا بستگی دارد؛ منبع نور باید در محدوده ۰.۵ درجه جهتگیری داشته باشد تا یکنواختی حرارتی حفظ شود؛ در غیر این صورت، ایزوترمها تغییر خواهند کرد.
این دستگاه سازگار با محفظههای لامپهای هالوژنی و مادون قرمز است؛ اما مجموعههای تعمیراتی مربوطه، برای مدلهای خاصی طراحی شدهاند. پس از تعویض لامپ، لازم است زمان لازم برای تنظیم مجدد پارامترهای حرارتی در نظر گرفته شود.