Di area pengolahan chip, proses pemanasan bahan photoresist sebenarnya merupakan proses kontrol suhu yang sangat penting. Perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk merusak keseragaman kualitas chip tersebut. Kami membangun lampu pemanas berbasis semikonduktor yang dapat diatur intensitas cahayanya, agar suhu yang dihasilkan tetap stabil, meskipun kondisi termal wafer tidak ideal.
Yang penting dalam sistem ini
Lampu ini menggunakan sumber cahaya halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam selubung kuarsa. Lampu ini dapat memanaskan wafer dengan cepat dan efisien, serta mampu menjaga stabilitas suhu dalam jangka panjang. Kontrol suhu selama proses pemanasan sangat akurat, dengan tingkat keseragaman suhu pada wafer yang mencapai ±0,1°C. Intensitas cahaya juga dapat diatur secara halus, sehingga kita dapat menyesuaikan kecepatan pemanasan sesuai kebutuhan. Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel apa pun saat beroperasi. Tingkat keandalannya非常高, dengan masa pakai hingga 5.000 jam tanpa adanya penurunan performa lebih dari 5%.
Mengapa sistem ini cocok untuk proses produksi
Baik digunakan sebagai modul pemanasan terpisah maupun digabungkan dengan peralatan pelapis/chip dryer yang sudah ada, lampu ini menggantikan pemanas konvensional dengan alternatif yang memenuhi standar peralatan semikonduktor internasional. Dengan demikian, proses produksi menjadi lebih repetitif, kontrol dimensi kritis menjadi lebih baik, dan penggunaan energi pun berkurang berkat kemampuan penyesuaian intensitas cahaya. Waktu siklus produksi pun menjadi lebih singkat karena respons termalnya yang cepat. Selain itu, sistem ini juga tahan terhadap siklus on/off yang sering, tanpa menyebabkan kerusakan.
Detail praktis
Lampu ini dapat dipasang di tempat yang telah disediakan untuk alat-alat serupa. Namun, perlu dilakukan verifikasi terhadap koneksi termal antara lampu dan substrat agar suhu yang dihasilkan sesuai dengan standar yang ditetapkan. Untuk hasil terbaik, orientasi lampu dan geometri reflektor perlu disesuaikan dengan permukaan wafer. Pastikan pula bahwa suplai daya mampu menutupi rentang penyesuaian intensitas cahaya yang diperlukan. Lampu ini beroperasi dalam rentang suhu dan tegangan yang ditentukan; jika melewati batas tersebut, umur lampu akan berkurang dan stabilitas termalnya akan menurun.