Mengapa kita menggunakan emas untuk memanaskan wafer
Saat memanaskan wafer semikonduktor, mudah sekali berpikir bahwa semakin tinggi daya yang digunakan, semakin baik hasilnya. Namun, daya yang digunakan bukanlah hal yang paling penting. Yang benar-benar penting adalah seberapa banyak energi tersebut yang benar-benar sampai ke permukaan wafer.
Masalahnya adalah lampu kuarsa biasanya memiliki celah-celah yang menyebabkan panasnya bocor ke sisi-sisi atau bagian belakang lampu. Panas tersebut tidak berguna sama sekali bagi proses pemanggangan wafer.
Itulah mengapa kita menggunakan lapisan emas berkualitas tinggi pada bagian reflektor.
Alasan penggunaan emas
Emas bukan hanya digunakan untuk perhiasan. Emas sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah. Jika kita menggunakan aluminium atau baja yang sudah dipolis, energi akan hilang karena bahan-bahan tersebut menyerap sebagian dari spektrum cahaya tersebut atau aus seiring waktu. Emas tidak seperti itu; emas mampu memantulkan hampir seluruh radiasi inframerah kembali ke arah wafer.
Hasilnya? Energi yang digunakan menjadi lebih terfokus. Kita tidak perlu menaikkan tegangan secara berlebihan agar proses pemanggangan dapat berjalan dengan baik.
Mengontrol suhu
Selain itu, hal ini juga membantu menjaga suhu mesin tetap stabil. Dengan begitu, sistem pendingin bisa bekerja lebih efektif. Radiasi yang terfokus membuat wafer mencapai suhu yang diinginkan lebih cepat.
Kekurangan penggunaan emas
Emas bukanlah solusi yang sempurna. Harganya mahal, sehingga meningkatkan biaya pembuatan mesin. Kita juga harus berhati-hati saat membersihkannya. Bahan kimia tertentu dapat merusak lapisan emas atau meninggalkan lapisan yang mengurangi kemampuan pantulan cahaya. Jika permukaan emas tergores atau berlubang, maka akan muncul titik-titik panas pada wafer, yang tentu saja merusak konsistensi hasil produksi.
Kita biasanya menggunakan metode ini untuk alat-alat di mana keseragaman suhu merupakan hal yang sangat penting. Dengan mengatur bentuk permukaan emas, kita dapat mengontrol bagaimana panas tersebar di permukaan wafer. Hal ini membantu menjaga stabilitas wafer dan mencegahnya dari kerusakan akibat suhu tinggi.