Nella linea da 300 mm, queste fluttuazioni termiche causate dal processo di risciacquo possono influenzare negativamente le caratteristiche del fotoresist prima del successivo ciclo di essiccazione. Per evitare questo problema, abbiamo progettato una lampada a infrarossi impermeabile in grado di mantenere costante la temperatura della superficie del wafer durante i cicli di risciacquo con acqua distillata. In questo modo, le dimensioni critiche del wafer rimangono entro i limiti previsti.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico
La lampada opera nella banda degli infrarossi a onde corte, permettendo così un riscaldamento rapido e efficace sia dell’acqua che del silicio. Il guscio in quarzo e la custodia IP67 garantiscono un funzionamento affidabile anche nelle ambienti puliti di Classe 1–100: non ci sono problemi legati all’emissione di gas o all’accumulo di particelle. Nella zona illuminata, l’uniformità della temperatura sul wafer rimane entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità tra i diversi lotti prodotti è costante.
Il controllo avviene tramite un sistema a retroazione chiusa, il che garantisce un funzionamento stabile anche quando la tensione di alimentazione varia.
Perché funziona bene nelle stazioni di risciacquo
Le stazioni di risciacquo sono luoghi in cui il bilancio termico può essere compromesso. Con questa lampada, non è più necessario compensare le fluttuazioni di temperatura durante i cicli di essiccazione; inoltre, il tempo necessario per l’essiccazione si riduce. Si otterranno quindi meno richieste di riparazione, minori scarti e un controllo più preciso delle dimensioni del wafer durante il processo di litografia.
Il riscaldamento avviene in modo mirato, quindi non viene sprecata energia per riscaldare l’acqua. La affidabilità della lampada è stata dimostrata in condizioni reali: le lampade possono funzionare per oltre 5.000 ore senza che la potenza prodotta diminuisca di oltre il 5%. Questo riduce i tempi di inattività imprevisti e diminuisce il bisogno di scorte di ricambio.
Cosa bisogna sapere in anticipo
La lampada può essere montata in posizione verticale o orizzontale sopra la zona di risciacquo. È necessaria un’interfaccia di alimentazione e di controllo adeguata al sistema di risciacquo. È importante mantenere una certa distanza dal wafer, in modo da evitare effetti negativi legati all’ombreggiamento.
È necessario un breve periodo di riscaldamento per raggiungere la temperatura desiderata; è quindi importante pianificare correttamente il processo di riscaldamento, in modo da evitare tempi di inattività inutili.