製造現場では、ご存知の通り、フォトレジストの焼成時に温度がわずかでも変動してしまうと、重要な寸法制御が崩れてしまいます。単に「熱」があればいいわけではありません。何よりも重要なのは、シフトを重ねてもプロセス範囲内で温度が安定し続けることです。
技術的に重要な点 私たちは、短波長のNIRを発する線形赤外線ヒーターを使用し、ウェハ全体の温度を±0.1℃以内に保っています。応答速度も速く、数ミリ秒以内であるため、ループ制御によって焼成プロセスを精密に管理できます。 このヒーターは、クリーンルームクラス1～100に適した構造で作られており、粒子の発生をできるだけ抑えるために、素材や表面処理にも細心の注意が払われています。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変化は5％未満です。これにより、ソフトバーンとハードバーンの設定値を日々再現可能にします。
なぜこれがフォトレジスト処理に有効なのか フォトレジストの処理では、熱管理が非常に重要です。エネルギーが不足すると溶剤が充分に除去されず、逆に多すぎるとレジストが流れ出したり、下層のフィルムに負担がかかったりします。 このヒーターを使えば、ウェハ全体に均一な加熱が行われるため、CDの寸法が一定に保たれ、欠陥が減少し、廃棄物も少なくなります。また、迅速な熱応答によってサイクルタイムも短縮され、必要な箇所にのみエネルギーが使われるため、オーバーシュートも起こりません。
注意すべき点 これらのヒーターは、国際的な半導体装置規格を満たすように設計されており、主流のプラットフォーム仕様に対応するものとして設計されています。既存のオーブンにも組み込むことができますが、取り付け精度や放射率の一致には注意が必要です。位置合わせも正確に行う必要があり、電気接続も清潔に保つ必要があります。熱性能はこれら両方に依存しています。制御ループが安定するように、専用の制御配線を用意する必要があります。それがプロセスに求められるものです。