Dalam proses pengeluaran wafer, kesan perubahan suhu tidak akan ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, ia akan dirasai dalam bentuk perubahan dimensi kritikal pada wafer, penipisan lapisan fotoresist, atau keperluan untuk membuang sebahagian wafer dan memprosesnya semula. Dalam proses pembungkusan wafer jenis fan-out, pengawalan suhu sangat penting. Jika pemanas tidak dapat mengekalkan suhu yang ditetapkan secara seragam pada seluruh permukaan wafer, maka hasil pengeluaran akan terjejas sebelum proses pemotongan pun bermula.
Kami menggunakan pemanas jenis fan-out WLP yang dibina berdasarkan komponen bermassa rendah dan dioptimakan untuk penggunaan gelombang inframerah. Komponen ini membolehkan wafer dipanaskan dengan cepat, kemudian dikekalkan pada suhu yang stabil. Tahap keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, agar proses pemanggangan dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Bahan-bahan yang digunakan untuk membina ruang kawalan suhu ini dipilih agar sesuai untuk operasi dalam persekitaran bersih kelas 1–100. Permukaannya direka sedemikian rupa agar tidak menghasilkan zarah-zarah debu dan meminimumkan pelepasan gas. Pengawalan suhu dilakukan menggunakan sensor berresolusi tinggi serta sistem respons cepat, sehingga sistem dapat kembali ke keadaan normal setelah penutup dibuka. Ini memastikan suhu tetap stabil, yang sangat penting untuk proses litografi, pengeringan, dan penyembuhan bahan.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini berkesan dalam praktiknya. Dalam proses pengeringan wafer, pemanas dapat menghilangkan air yang terdapat pada permukaan wafer tanpa menyebabkan tekanan haba atau meninggalkan lapisan yang tidak diinginkan. Dalam proses pemrosesan fotoresist, stabiliti suhu yang sama membantu memastikan proses pemanggangan berjalan dengan lancar, sehingga dimensi kritikal dan sudut-sudut permukaan wafer tetap stabil.
Dalam proses pengurungan wafer dan penyembuhan bahan di bawahnya, pemanas membantu mengawal suhu agar tidak berlaku pembengkakan atau rongga pada wafer. Dengan adanya sistem ini, masa henti yang tidak dijangka, pembaziran bahan, dan kos operasi dapat dikurangkan, tanpa perlu mengubah bahan kimia yang digunakan.
Pemanas ini boleh disepadukan secara langsung ke dalam platform proses biasa. Namun, perlu juga diperiksa sama ada pemanas ini sejajar dengan saluran gas dan sistem pembuangan gas, serta pastikan sensor suhu dikalibrasikan dengan betul semasa pemasangan. Lakukan ujian pendek untuk menentukan profil suhu yang tepat untuk setiap jenis wafer dan substrat yang digunakan.
Setelah profil suhu ditentukan, proses pengeluaran akan menjadi lebih efisien, tanpa sebarang masalah yang tidak dijangka.