На поверхні вафери під час процесу висушування фотополімеру може виникнути точка з підвищеною температурою 0,5°C. Це може призвести до порушення контролю товщини ліній на вафері, а отже, і до зниження якості продукції. Рефлектор у лампі для висушування – це не просто елемент обладнання; він формує теплове поле, що забезпечує стабільність процесу під час кожної операції.
Ми розробили цей рефлектор так, щоб він забезпечував температурну однорідність на рівні ±0,1°C. Це дозволяє точно дотримуватися параметрів процесу під час його виконання.
У складі цього пристрою є високочистий кварцевий рефлектор, який має спектральне покриття, призначене для роботи у короткохвильовому та середньохвильовому інфрачервоному діапазонах. Це забезпечує стабільний та передбачуваний розподіл енергії, що є важливим для правильного функціонування фотополімеру.
Пристрій сумісний із чистими приміщеннями класу 1–100. Він виготовлений з матеріалів, які мінімізують виділення газів, а також має поверхню, яка запобігає утворенню частинок. Пристрій призначений для цілодобової роботи без перерв, а його продуктивність залишається стабільною протягом 5 000+ годин, з відхиленням інтенсивності світла менше 5%.
У процесі літографії температурна однорідність є ключовим фактором для контролю діаметру деталей. Завдяки температурній однорідності на рівні ±0,1°C можна уникнути дефектів на краях вафери та забезпечити точний контроль параметрів деталей.
Чистий профіль рефлектора дозволяє зменшити кількість необхідних корекцій, скоротити час на налаштування пристрою та знизити споживання енергії. Для обробки фотополімеру це означає меншу кількість непридатних вафер та можливість точного планування обсягу виробництва.
Встановлення пристрою зводиться до правильної орієнтації лампи та налаштування потоку повітря. Рефлектор потрібно налаштувати з точністю до 0,5°, щоб зберегти необхідну температурну однорідність. Неправильна орієнтація може призвести до зміни параметрів теплового поля.
Пристрій підходить для стандартних галогенних та НІР-ламп, але комплекти для модифікації є специфічними для кожної моделі. Після заміни пристрою необхідно провести коротку налаштування для перекалібрування параметрів процесу.