ওয়েফার কিউরিং ল্যাম্পের জন্য রিফ্লেক্টর

Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800

ফ্যাব ফ্লোরে, ফটোরেসিস্ট বেক প্রক্রিয়ার সময় ওয়েফারের উপর ০.৫°C তাপমাত্রার পার্থক্য থাকলে লাইনওয়াইডনেস নিয়ন্ত্রণ ব্যাহত হয়—ফলে উৎপাদন ক্ষমতাও কমে যায়। কিউরিং ল্যাম্পের রিফ্লেক্টরটি কেবলমাত্র একটি হার্ডওয়্যার নয়; এটা থার্মাল ফিল্ডকে নিয়ন্ত্রণ করে, যাতে প্রক্রিয়াটি প্রতিবারই একইভাবে চলে।
আমরা ওয়েফার কিউরিং ল্যাম্পগুলোর জন্য এমন রিফ্লেক্টর ডিজাইন করেছি, যা ±০.১°C তাপীয় সমানতা বজায় রাখে; ফলে সফট বেক ও হার্ড বেক প্রক্রিয়াগুলো ঠিক নির্ধারিত নিয়ম অনুসারে চলে।
এখানে কী রয়েছে? আমরা উচ্চ-বিশুদ্ধতার কোয়াটজ রিফ্লেক্টরকে শর্ট-ওয়েভ ও মিডিয়াম-ওয়েভ ইনফ্রারেড তরঙ্গের জন্য অভিযোজিত স্পেকট্রাল কোটিংয়ের সাথে ব্যবহার করি। এর ফলে স্থিতিশীল ও পুনরাবৃত্তিযোগ্য এনার্জি বণ্টন হয়; ফটোরেসিস্টের তাপীয় অবস্থাও ঠিক থাকে।
এটি ক্লাস ১–১০০ ক্লিনরুমগুলোর জন্য উপযুক্ত; এটি কম গ্যাস নিঃসরণকারী উপাদান দিয়ে তৈরি, আর এর পৃষ্ঠটি এমনভাবে তৈরি করা হয়েছে যাতে কণা উৎপন্ন না হয়। এটি ২৪/৭ ঘণ্টা কাজ করতে পারে; ৫,০০০+ ঘণ্টা কাজ করার পরও এর কার্যক্ষমতা ৫% এরও কম হ্রাস পায়।
লিথোগ্রাফিতে, তাপীয় সমানতা হলো CD নিয়ন্ত্রণের গুরুত্বপূর্ণ উপাদান। ওয়েফারের উপর ±০.১°C তাপমাত্রার পার্থক্য থাকলে ফিল্ডের কিনারার ত্রুটিগুলো কমে যায়, আর ক্রিটিক্যাল ডাইমেনশনগুলো নিয়ন্ত্রণে থাকে।
রিফ্লেক্টরের ক্লিন প্রোফাইলের ফলে পুনরায় কাজ করার প্রয়োজন কমে যায়; কোয়ালিফিকেশন প্রক্রিয়াও সংক্ষিপ্ত হয়। আর তাপ সেখানেই ব্যবহৃত হয়, যেখানে প্রয়োজন। ফটোরেসিস্ট প্রক্রিয়ায় এর ফলে অপ্রয়োজনীয় ওয়েফারগুলো কমে যায়, আর উৎপাদন ক্ষমতাও বাড়ে।
ইনস্টলেশনের ক্ষেত্রে ল্যাম্পের অবস্থান ও বায়ুপ্রবাহ গুরুত্বপূর্ণ। নির্ধারিত তাপীয় সমানতা বজায় রাখতে রিফ্লেক্টরটিকে ০.৫° এর মধ্যে সারিবদ্ধ করতে হয়; অন্যথায় আইসোথার্মগুলো বিচ্যুত হয়ে যায়।
এটি স্ট্যান্ডার্ড হ্যালোজেন ও NIR কিউরিং ল্যাম্পগুলোর জন্য উপযুক্ত; কিন্তু রিট্রোফিট কিটগুলো মডেল-সংগত। ইনস্টলেশনের পর প্রক্রিয়াটিকে পুনর্নিয়ন্ত্রণ করার জন্য সাময়িকভাবে তাপীয় অবস্থার সামঞ্জস্য করতে হয়।

চিকিৎসা/নিরাময় on Custom Infrared Heat Solutions

ওয়েফার কিউরিং ল্যাম্পের জন্য রিফ্লেক্টর