http://ir-heat-solutions.com/cs/tags/%C4%8Di%C5%A1t%C4%9Bn%C3%AD/ Recent content in Čištění on Custom Infrared Heat Solutions Hugo cs Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/cs/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/cs/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampa na sušení waferů po čištění"></p> <p>V výrobních prostorách stačí jediná voda po čištění k poškození čipu. Krok sušení po čištění není jen doba odpočinku – jedná se o klíčovou podmínku pro správný průběh procesu. Naše lampy na sušení čipů jsou navrženy tak, aby zajistily potřebnou teplotní kontrolu hned po mokrém čištění, právě tam, kde je to nejdůležitější.</p> <p><strong>Co je z technického hlediska důležité</strong> Nastavujeme profil sušení pomocí krá<a href="https://o-yate.net">tkovlnn</a>ého a střednovlnného infračerveného záření v quartzových lampách. Cílem je rychlé, kontrolované zahřívání bez poškození fotorezistoru. Opakovatelnost teploty je ±0,1 °C na celém povrchu čipu, a <a href="https://goldisgood.com">rovnom</a>ěrnost teploty zůstává v úzkém rozmezí, takže kritické rozměry nezesilují. Systém funguje čistě – bez vzniku částic – a může být použit v prostorách s úrovni čistoty 1–100. Stabilita systému přetrvává více než 5 000 hodin s poklesem menším než 5 %, takže lze systém používat 24/7 bez jakýchkoliv problémů.</p>