<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Léčba on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/cs/tags/l%C3%A9%C4%8Dba/</link>
		<description>Recent content in Léčba on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/cs/tags/l%C3%A9%C4%8Dba/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reflektor pro lampu na vytvrzování destiček</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/cs/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/cs/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Reflektor pro lampu na vytvrzování destiček&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostředí výroby může být nárůst teploty o 0,5 °C na povrchu waferu během zahřívání fotorezistentu důvodem k selhání kontroly šířky čar – a tím i ke snížení efektivity výroby. Reflektor v lampě určené k zahřívání waferů není jen obyčejný hardware. On totiž formuje tepelné pole, které zajišťuje opakovatelnost procesu při každém opakování.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Náš reflektor je navržen tak, aby udržoval tepelnou rovnoměrnost v rozmezí ±0,1 °C, aby profily teplého zahřívání odpovídaly přesně specifikacím.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Reflektor je vyroben z vysoce čistého křemíku s spektrálními povlaky optimalizovanými pro krátkovlnné a střednovlnné infračervené záření. To umožňuje stabilní a opakovatelné rozdělování energie, což respektuje tepelné požadavky fotorezistentu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
