http://ir-heat-solutions.com/de/tags/reinigen/ Recent content in Reinigen on Custom Infrared Heat Solutions Hugo de Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/de/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/de/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Wafer Trocknungsleuchte nach der Reinigung"></p> <p>Auf der Herstellungsebene reicht bereits ein einziger Wassertropfen nach der Reinigung aus, um eine Wafer zu <a href="https://o-yate.net">zerst</a>ören. Die Trocknungsphase nach der Reinigung ist keine Pause – sie ist vielmehr eine notwendige Voraussetzung für eine gute Qualität der Wafer. Wir haben unsere Trocknungslampen so konzipiert, dass sie genau die benötigte Temperatur <a href="https://o-yate.com">erzeugen</a> – direkt nach der Reinigung, an der entscheidenden Stelle des Prozesses.</p> <p><strong>Was technisch wichtig ist:</strong> Wir justieren das Trocknungsprofil mithilfe von Kurz- und Mittelwellen-Infrarotstrahlen in den Quarzlampen. Ziel ist eine schnelle, kontrollierte Erwärmung – ohne dass der <a href="https://goldisgood.com">Photoresist</a> beschädigt wird. Die Temperaturgenauigkeit liegt bei ±0,1°C über die gesamte Fläche der Wafer. Dadurch bleiben die <a href="https://henruite.com">kritischen</a> Abmessungen stabil. Das System arbeitet besonders sauber – es entstehen keine Partikel. Es eignet sich für Reinräume der Klassen 1–100. Die Stabilität hält länger als 5.000 Stunden an – mit weniger als 5% Abweichung. Dadurch kann der Prozess 24/7 ohne Probleme durchgeführt werden.</p>