<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lineal on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/es/tags/lineal/</link>
		<description>Recent content in Lineal on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>es</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:45:11 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/es/tags/lineal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Emisor de calentamiento por infrarrojos lineal</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/es/posts/linear-infrared-heating-emitter/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:45:11 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/es/posts/linear-infrared-heating-emitter/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Emisor de calentamiento por infrarrojos lineal&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, como ya se sabe, un cambio incluso mínimo en la temperatura durante el proceso de curado del fotoresisto puede hacer que las dimensiones críticas del producto no cumplan con los estándares exigidos. No se necesita tanto calor como sí se necesita estabilidad térmica, para que esa temperatura permanezca dentro de los límites establecidos, turno tras turno.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizamos emisores de calor infrarrojo lineales que emiten ondas cortas de luz NIR. De esta manera, logramos mantener una uniformidad de temperatura en el wafer de entre ±0.1°C. La respuesta es rápida, en milisegundos, lo que permite un control preciso del proceso.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
