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		<title>Ola on Custom Infrared Heat Solutions</title>
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				<title>Calentador infrarrojo de onda media para obleas</title>
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				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 01:00:20 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Calentador infrarrojo de onda media para obleas&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En el área de producción, los pasos de cocción son aquellos en los que se determina el presupuesto térmico del proceso. Un cambio de 2°C en la temperatura de cocción puede afectar las dimensiones críticas de los chips. Si aparecen partículas durante este &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;proceso&lt;/a&gt;, entonces todo está perdido. Los sistemas de calentamiento tradicionales no pueden lograr la precisión necesaria para los procesos avanzados, sin que sea necesario elegir entre velocidad y control.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que realmente importa en el fondo&lt;/strong&gt;&#xA;Los calentadores de onda media infrarroja transfieren energía directamente al wafer, utilizando un espectro que coincide con la capacidad de absorción del silicio. Esto permite una respuesta térmica rápida y un control preciso del estado estable del wafer. Logramos una uniformidad de ±0.1°C en toda la superficie del wafer, y los puntos de referencia se mantienen estables dentro de un margen de 0.2°C de ciclo en ciclo.&lt;/p&gt;</description>
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