http://ir-heat-solutions.com/fr/tags/nettoyage/ Recent content in Nettoyage on Custom Infrared Heat Solutions Hugo fr Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/fr/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/fr/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampe de séchage de wafer après nettoyage"></p> <p>Dans les usines de fabrication, une seule trace d’eau restante après le nettoyage suffit pour endommager la wafer. L’étape de séchage qui suit le nettoyage n’est pas une simple pause : c’est plutôt une exigence technique essentielle. Nous avons conçu nos lampe de séchage afin qu’elles permettent un contrôle thermique précis immédiatement après le nettoyage, là où cela est vraiment important.</p> <p><strong>Ce qui est important sur le plan technique</strong> Nous ajustons le profil de séchage en utilisant des ondes infrarouges à courte et moyenne longueur d’onde, grâce à des lampes en quartz. L’objectif est d’obtenir un chauffage rapide et contrôlé, sans endommager le photo-résistant. La répétabilité de la température est de ±0,1°C sur toute la surface de la wafer, et l’uniformité est telle que les dimensions critiques ne varient pas. Le système fonctionne dans des environnements propres, sans production de particules, et peut être utilisé dans des salles propres de classe 1–100. La stabilité du système est garantie pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5% de dégradation, ce qui permet de fonctionner 24/7 sans problème.</p>