http://ir-heat-solutions.com/id/tags/pembersihan/ Recent content in Pembersihan on Custom Infrared Heat Solutions Hugo id Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/id/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800 http://ir-heat-solutions.com/id/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampu pengering wafer setelah dibersihkan"></p> <p>Di pabrik pembuatan chip, adanya satu saja tanda air setelah proses pembersihan sudah cukup untuk merusak wafer tersebut. Langkah pengeringan setelah pembersihan bukanlah sekadar proses sampingan; ini merupakan <a href="https://goldisgood.com">syarat</a> yang harus dipenuhi, secara sederhana saja. Kami merancang lampu pengering wafer agar dapat mengontrol suhu dengan tepat setelah proses pembersihan, tepat di titik yang kritis dalam proses produksi.</p> <p><strong>Apa yang penting secara teknis?</strong> Kami menyesuaikan profil pengeringan menggunakan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek dan sedang melalui lampu kuarsa. Tujuannya adalah untuk memanaskan wafer secara cepat namun terkendali, tanpa merusak lapisan fotoresist. Tingkat repetibilitas suhu mencapai ±0,1°C pada seluruh permukaan wafer, sehingga dimensi-dimensi kritis tetap stabil. Sistem ini dirancang agar bekerja dalam kondisi bersih—tanpa adanya partikel-partikel yang bisa merusak wafer. Sistem ini cocok digunakan di ruang kerja kelas 1–100. Stabilitas sistem ini tetap terjaga selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan suhu kurang dari 5%, sehingga wafer dapat diproses 24/7 tanpa masalah.</p>