<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pemulihan on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/id/tags/pemulihan/</link>
		<description>Recent content in Pemulihan on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/id/tags/pemulihan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reflektor untuk lampu pengering wafer</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/id/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/id/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Reflektor untuk lampu pengering wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area pabrik pembuatan chip, adanya perbedaan suhu sebesar 0,5°C di permukaan wafer selama proses pemanggangan fotoresist dapat &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;merusak&lt;/a&gt; kemampuan kontrol ketebalan garis pada permukaan wafer—dan tentu saja akan mengurangi tingkat keberhasilan produksi. Reflektor yang terdapat dalam lampu pengering tersebut bukan sekadar komponen keras biasa. Reflektor ini berfungsi untuk membentuk medan termal yang stabil, sehingga prosesnya dapat diulang-ulang dengan hasil yang konsisten.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami merancang reflektor ini sedemikian rupa agar mampu menjaga keseragaman suhu hingga ±0,1°C. Dengan demikian, profil suhu saat proses pemanggangan berjalan akan tetap konsisten sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
