Nella fase di cottura, sono proprio questi passaggi a determinare il “budget termico” del processo: in un modo o nell’altro. Una variazione di 2°C durante la cottura può influenzare le dimensioni critiche dei wafer; inoltre, se durante il processo compaiono particelle, il lotto prodotto è rovinato. I sistemi di riscaldamento tradizionali non riescono a garantire una precisione così elevata richiesta dai processi avanzati, costringendo quindi a scegliere tra velocità e controllo preciso.
Ciò che davvero conta I riscaldatori a onde medie a infrarossi trasferiscono l’energia direttamente sul wafer, grazie a uno spettro di radiazioni compatibile con l’assorbimento del silicio. Questo permette una risposta termica rapida e un controllo preciso dello stato termico del wafer. Riusciamo a mantenere una uniformità termica di ±0,1°C su tutto il wafer, mentre i valori di riferimento rimangono stabili entro un range di 0,2°C da ciclo a ciclo.
Il sistema è progettato per funzionare in ambienti di tipo “cleanroom” (classe 1–100), utilizzando materiali con bassa emissione di gas e una struttura che impedisce l’ingresso di particelle all’interno del sistema. Il numero di particelle presenti sul wafer durante la cottura rimane inferiore a 0,3 particelle/cm². Il sistema funziona 24/7, senza interruzioni, e il profilo termico rimane stabile anche dopo migliaia di cicli.
Perché questo sistema è adatto ai nostri processi Nei cluster di litografia, questi riscaldatori riducono i tempi di cottura senza compromettere la qualità del prodotto. L’efficienza aumenta, mentre i parametri del fotoresist rimangono entro i limiti richiesti. Inoltre, l’uso di energia diminuisce rispetto ai sistemi a spettro ampio, poiché l’energia viene utilizzata esclusivamente per il processo stesso, senza essere sprecata in riscaldamenti indesiderati.
La precisione del processo migliora, poiché il profilo termico rimane costante da ciclo a ciclo. Anche nella fase di confezionamento, questa precisione garantisce una qualità ottimale dei materiali utilizzati, riducendo così i ritocchi e gli scarti.
Cosa è importante considerare fin dall’inizio L’installazione richiede che le dimensioni dei riscaldatori siano appropriate per il wafer, e che il percorso delle radiazioni infrarosse sia correttamente allineato, per evitare effetti negativi. È fondamentale utilizzare connessioni elettriche adatte per ambienti di tipo “cleanroom”, e verificare il “budget termico” delle pareti della camera di lavoro.
Le onde medie funzionano bene per i wafer, ma risultano meno efficaci su supporti altamente riflettenti. In tali casi, potrebbe essere necessario utilizzare emettitori specifici o regolare i valori di riferimento. È importante verificare il funzionamento del sistema utilizzando un wafer di prova, prima di procedere con la produzione in serie.