Curazione on Custom Infrared Heat Solutions

Fabbro certificato per lampade di indurimento a infrarossi

Fri, 24 Jul 2026 11:49:14 +0800

Perché stiamo sostituendo gli antichi forni con impianti di essiccazione a raggi infrarossi nelle fabbriche
Sia onesti: quegli antichi forni a convezione sono davvero obsoleti. Nel settore dei semiconduttori, c’è una forte tendenza verso l’uso di lampade a raggi infrarossi certificate. Non si tratta soltanto di rispettare le normative ambientali o di utilizzare materiali senza piombo: si tratta anche del fatto che queste lampade funzionano meglio.

Con i forni a convezione, in pratica si riscalda un’enorme quantità d’aria solo per riscaldare il wafer. Il processo è lento, richiede molta energia e si deve sempre preoccuparsi della presenza di polvere o particelle nell’aria calda che potrebbero danneggiare il componente in lavorazione.

Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer

Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 0,5°C sulla superficie del wafer durante il processo di essiccazione del fotoreostro può compromettere il controllo delle dimensioni delle linee presenti sul wafer stesso, e di conseguenza anche il tasso di produzione. Il riflettore presente nelle lampade per l’essiccazione non è semplicemente un componente meccanico: esso influisce sul campo termico, garantendo così che il processo possa essere ripetuto con precisione, shot dopo shot.

Abbiamo progettato questo riflettore appositamente per le lampade utilizzate nell’essiccazione dei wafer, al fine di mantenere una uniformità termica di ±0,1°C. In questo modo, i profili di essiccazione possono essere gestiti con precisione, seguendo esattamente le specifiche richieste.