Forno per ambienti puliti riscaldatore a infrarossi

Thu, 02 Jul 2026 09:30:01 +0800

Nelle fabbriche di produzione dei wafer, è noto che anche un cambiamento di temperatura di soli 0,2°C può influenzare negativamente le dimensioni critiche dei componenti, costringendo il lotto a essere rifatto. I forni tradizionali faticano a contrastare l’inerzia termica e le particelle presenti nell’aria; ogni lotto scartato rappresenta quindi una perdita di capacità produttiva e ritardi nei tempi di produzione.

Cosa è importante nel funzionamento del forno
Abbiamo progettato questo forno per ambienti puliti, utilizzando emettitori infrarossi a onde corte. L’energia viene trasmessa direttamente sul wafer, permettendo così di raggiungere rapidamente la temperatura desiderata senza surriscaldare l’intero ambiente di cottura. L’uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer rimane entro i ±0,1°C, mentre la ripetibilità tra i vari lotti è molto elevata: proprio ciò che è necessario per mantenere sotto controllo le dimensioni dei componenti durante il processo di litografia.

Forno on Custom Infrared Heat Solutions

Forno per ambienti puliti riscaldatore a infrarossi