Lampada per l essiccazione dei wafer dopo la pulizia

Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800

Nelle linee di produzione, basta una sola traccia d’acqua rimasta dopo la pulizia per rovinare un wafer. La fase di essiccazione successiva alla pulizia non è certo un momento di relax: si tratta semplicemente di un passaggio fondamentale per garantire i requisiti richiesti. Abbiamo progettato le nostre lampade per l’essiccazione in modo che permettano un controllo termico preciso, proprio dopo la pulizia, nel momento in cui il processo è più critico.

Quello che conta, dal punto di vista tecnico
Regoliamo il profilo di essiccazione utilizzando raggi infrarossi a lunghezza d’onda breve e media, all’interno di lampade in quarzo. L’obiettivo è ottenere un riscaldamento rapido e controllato, senza danneggiare il fotoresist. La ripetibilità della temperatura è di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer; inoltre, l’uniformità della temperatura mantiene valori stabili, così da evitare variazioni nelle dimensioni critiche del wafer. Il sistema è progettato per funzionare in ambienti puliti, senza generazione di particelle di sporco; può essere utilizzato in ambienti con livello di pulizia da 1 a 100. La stabilità del sistema è elevata: rimane costante per oltre 5.000 ore, con una variazione inferiore al 5%. Questo permette di utilizzare il sistema 24/7 senza problemi.

Pulizia on Custom Infrared Heat Solutions

Lampada per l essiccazione dei wafer dopo la pulizia