<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dapur Pembakar on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/ms/tags/dapur-pembakar/</link>
		<description>Recent content in Dapur Pembakar on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 09:30:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/ms/tags/dapur-pembakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk ketuhar di bilik bersih</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 09:30:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/ms/posts/clean-room-oven-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk ketuhar di bilik bersih&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran wafer, prosesnya memang sudah diketahui: sedikit perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi penting wafer tersebut, sehingga memerlukan wafer tersebut diproses semula. Ketuhar konvensional sukar untuk mengatasi &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;masalah&lt;/a&gt; inersia haba dan zarah-zarah yang terdapat di udara. Setiap wafer yang rosak akan menyebabkan kehilangan kapasiti pengeluaran dan kelewatan jadual pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di belakang tabir&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina ketuhar ini menggunakan pemancar inframerah kuarsa berfrekuensi rendah. Tenaga yang dihasilkan disalurkan terus ke wafer, sehingga suhu &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dapat&lt;/a&gt; dicapai dengan cepat tanpa perlu memanaskan keseluruhan ruang ketuhar. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikekalkan pada ±0.1°C, dan konsistensi hasil pengeluaran juga tetap tinggi dari satu &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kumpulan&lt;/a&gt; wafer ke kumpulan wafer yang lain. Inilah yang diperlukan untuk mengawal ketepatan lapisan bahan pada wafer semasa proses litografi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
