<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Penyembuhan on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/ms/tags/penyembuhan/</link>
		<description>Recent content in Penyembuhan on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/ms/tags/penyembuhan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reflektor untuk lampu pengeringan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Reflektor untuk lampu pengeringan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, kawasan dengan suhu setinggi 0.5°C pada permukaan wafer semasa proses pemanasan bahan photoresist boleh merosakkan kawalan ketebalan garisan pada permukaan wafer tersebut – dan seterusnya menjejaskan kadar pengeluaran produk. Reflektor yang terdapat dalam lampu pengeringan bukan sekadar alat biasa; ia berfungsi untuk membentuk medan haba yang memastikan proses pengeringan berjalan secara konsisten, dari satu sesi ke sesi yang lain.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami telah mereka bentuk reflektor ini agar dapat mengekalkan keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C, supaya proses pengeringan dapat berjalan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
