Op de productielijn kan een temperatuurverschil van 0,5°C op het wafer tijdens het verhitten van de fotoresist er toe leiden dat de controle over de dikte van de lijnen verloren gaat – en dat heeft weer gevolgen voor de opbrengst. De reflector in de lamp is geen eenvoudig onderdeel; deze bepaalt namelijk het thermische veld dat ervoor zorgt dat het proces steeds op dezelfde manier verloopt.
Wij hebben deze reflector ontworpen zodat er een temperatuuruniformiteit van ±0,1°C wordt behaald. Hierdoor kunnen de parameters voor het zachte en harde verhitten nauwkeurig worden geregeld.
Het apparaat is compatibel met zuiverruimten van klasse 1–100. Het is gemaakt van materialen die minimale uitstoot van gassen veroorzaken, en de oppervlakte is zo behandeld dat er nauwelijks deeltjes vrijkomen. Het apparaat kan 24/7 draaien zonder onverwachte stilstanden. Na meer dan 5.000 uur gebruik blijft de output constant, met minder dan 5% afwijking in intensiteit.
In de litografie is temperatuuruniformiteit essentieel voor het controleren van de kwaliteit van het product. Met een temperatuurverschil van ±0,1°C op het wafer kunnen defecten aan de randen van het wafer worden voorkomen, waardoor de nauwkeurigheid van de afmetingen verbetert.
Dankzij de goede eigenschappen van de reflector is er minder herwerk nodig, zijn de kalibratiecycli korter en wordt er minder energie verbruikt. Hierdoor komt er minder afvalwafer vrij en kan de opbrengst beter worden gepland.
Voor de installatie is het belangrijk om de lamp goed te positioneren en de luchtcirculatie te regelen. De reflector moet binnen 0,5° worden gealigneerd om de gewenste temperatuuruniformiteit te behouden. Anders veranderen de isotermen.
De reflector past in standaard halogeen- en NIR-lampen. Echter, de benodigde accessoires verschillen per model. Nadat de reflector is geïnstalleerd, moet er nog een korte aanpassing worden gedaan om het proces opnieuw te kalibreren.