Wafer on Custom Infrared Heat Solutions

Middengolf infraroodverwarmer voor wafer

Tue, 23 Jun 2026 01:00:20 +0800

Op de productielijn worden de stappen die nodig zijn voor het bakken van de wafers bepaald. Hier wordt ook bepaald hoe groot het thermische budget is dat beschikbaar is. Een verschil van 2°C tijdens het zachte of harde bakproces kan leiden tot veranderingen in de belangrijkste afmetingen van de wafers. Als er partikeltjes verschenen tijdens dit proces, is het proces niet meer te redden. Traditionele verwarmingssystemen kunnen de hoge eisen die worden gesteld aan de nauwkeurigheid van de temperatuur niet waarmaken, zonder dat je moet kiezen tussen snelheid en controle.

Reflector voor wafer ovendlamp

Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800

Op de productielijn kan een temperatuurverschil van 0,5°C op het wafer tijdens het verhitten van de fotoresist er toe leiden dat de controle over de dikte van de lijnen verloren gaat – en dat heeft weer gevolgen voor de opbrengst. De reflector in de lamp is geen eenvoudig onderdeel; deze bepaalt namelijk het thermische veld dat ervoor zorgt dat het proces steeds op dezelfde manier verloopt.

Wij hebben deze reflector ontworpen zodat er een temperatuuruniformiteit van ±0,1°C wordt behaald. Hierdoor kunnen de parameters voor het zachte en harde verhitten nauwkeurig worden geregeld.