Aquecedor infravermelho para forno em sala limpa

Thu, 02 Jul 2026 09:30:01 +0800

Na fábrica de produção de wafers, sabe-se como é: uma variação de temperatura de apenas 0,2°C já é suficiente para afetar as dimensões críticas dos wafers, fazendo com que eles precisem ser reprocessados. Os fornos convencionais têm dificuldades em lidar com a inércia térmica e com as partículas presentes no ar; cada lote rejeitado representa perda de capacidade produtiva e atrasos no cronograma de produção.

O que realmente importa Construímos o forno para salas limpas utilizando emissores infravermelhos de onda curta. A energia é direcionada diretamente para o wafer, permitindo que se atinja a temperatura desejada rapidamente, sem aquecer toda a câmara. A uniformidade da temperatura ao longo do wafer fica em torno de ±0,1°C, e a repetibilidade entre lotes é alta – exatamente o que é necessário para manter o controle da espessura do revestimento do wafer durante a litografia.

Forno on Custom Infrared Heat Solutions

Aquecedor infravermelho para forno em sala limpa