Lâmpada de secagem de wafers após a limpeza

Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800

Na fábrica de semicondutores, uma única marca d’água após a limpeza já é suficiente para destruir um wafer. A etapa de secagem pós-limpeza não é algo secundário – ela é essencial, ponto final. Nós desenvolvemos lâmpadas de secagem capazes de fornecer o controle térmico necessário logo após a limpeza, exatamente onde o processo é crítico.

O que é importante, do ponto de vista técnico: Nós ajustamos o perfil de secagem utilizando infravermelho de onda curta e média, em lâmpadas de quartzo. O objetivo é obter um aquecimento rápido e controlado, sem danificar o fotorelativo. A repetibilidade da temperatura fica entre ±0,1°C em todo o wafer, e a uniformidade é mantida dentro de limites muito estreitos, evitando que as dimensões críticas sejam afetadas. O sistema funciona de maneira eficiente – sem geração de partículas – e pode ser utilizado em salas limpas de classe 1–100. A estabilidade do sistema permanece alta por mais de 5.000 horas, com queda inferior a 5%, permitindo operação contínua 24/7.

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Lâmpada de secagem de wafers após a limpeza