<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Высыхание on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/ru/tags/%D0%B2%D1%8B%D1%81%D1%8B%D1%85%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Высыхание on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/ru/tags/%D0%B2%D1%8B%D1%81%D1%8B%D1%85%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Отражатель для лампы для высушивания пластин</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:44:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Отражатель для лампы для высушивания пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке небольшое увеличение температуры на уровне 0,5°C на поверхности кристалла во время процесса высушивания фотопленки может серьезно повлиять на точность контроля толщины линий на поверхности кристалла, а также на общий уровень выхода готовой продукции. Рефлектор в лампе для высушивания не является просто деталью оборудования – он формирует тепловое поле, что обеспечивает однородность процесса при каждой последующей обработке кристалла.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы спроектировали этот рефлектор так, чтобы он обеспечивал температурную однородность в пределах ±0,1°C. Это позволяет сохранять стабильные параметры процесса при каждой обработке кристалла.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
