<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеїм on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%97%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеїм on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%97%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для сушіння вафер після очищення</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/uk/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/uk/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушіння вафер після очищення&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На заводі з виробництва чипів одна лише ознака наявності вологи після чищення може призвести до пошкодження поверхні чипа. Етап сушіння після чищення не є просто формальністю – це важлива умова для якісного виробництва. Ми розробили спеціальні лампи для сушіння чипів, які забезпечують необхідний температурний контроль відразу після процедури чищення, саме там, де це найбільш важливо.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми налаштовуємо процес сушіння за допомогою короткохвильового та середньохвильового інфрачервоного випромінювання в кварцових лампах. Мета полягає у швидкому та контрольованому нагріванні без пошкодження фотополімеру. Періодичність зміни температури становить ±0,1°C на всій поверхні чипа, а її однорідність зберігається в дуже вузьких межах, що запобігає змінам критичних розмірів чипа. Система працює без жодних забруднень – не утворюється жодних частинок пилу. Вона може працювати в чистих приміщеннях класу 1–100. Стабільність роботи становить понад 5,000 годин, з втратою потужності менше 5%, тож можна працювати 24/7 без змін параметрів процесу.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
