<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Vệ Sinh on Custom Infrared Heat Solutions</title>
		<link>http://ir-heat-solutions.com/vi/tags/v%E1%BB%87-sinh/</link>
		<description>Recent content in Vệ Sinh on Custom Infrared Heat Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-solutions.com/vi/tags/v%E1%BB%87-sinh/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn sấy wafer sau khi vệ sinh</title>
				<link>http://ir-heat-solutions.com/vi/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 15:42:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-solutions.com/vi/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-solutions.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Đèn sấy wafer sau khi vệ sinh&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất, chỉ cần có một vết nước nhỏ trên bề mặt wafer sau khi được làm sạch thôi cũng đủ để làm hỏng wafer đó. Bước sấy khô sau khi làm sạch không phải là bước tạm dừng; đó là một yêu cầu kỹ thuật cần được tuân thủ nghiêm ngặt. Chúng tôi thiết kế các thiết bị sấy khô sao cho có thể kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác ngay sau khi wafer được làm sạch, tức là ở giai đoạn quan trọng nhất của quy trình.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
