En el área de producción, los pasos de cocción son aquellos en los que se determina el presupuesto térmico del proceso. Un cambio de 2°C en la temperatura de cocción puede afectar las dimensiones críticas de los chips. Si aparecen partículas durante este proceso, entonces todo está perdido. Los sistemas de calentamiento tradicionales no pueden lograr la precisión necesaria para los procesos avanzados, sin que sea necesario elegir entre velocidad y control.
Lo que realmente importa en el fondo Los calentadores de onda media infrarroja transfieren energía directamente al wafer, utilizando un espectro que coincide con la capacidad de absorción del silicio. Esto permite una respuesta térmica rápida y un control preciso del estado estable del wafer. Logramos una uniformidad de ±0.1°C en toda la superficie del wafer, y los puntos de referencia se mantienen estables dentro de un margen de 0.2°C de ciclo en ciclo.
El sistema es compatible con entornos de sala limpia de clase 1-100, ya que utiliza materiales con baja emisión de gases y un diseño que evita la entrada de partículas. El número típico de partículas durante el proceso de cocción es de menos de 0.3 partículas/cm². El sistema funciona 24/7, sin interrupciones no planificadas, y el perfil térmico se mantiene estable a lo largo de miles de ciclos.
Por qué esto funciona bien para nosotros Dentro de los equipos de litografía, estos calentadores reducen el tiempo de cocción sin afectar negativamente el perfil térmico. La productividad aumenta, y los parámetros del fotolitógrafo se mantienen dentro de los límites establecidos. El consumo de energía disminuye en comparación con las fuentes de luz de espectro amplio, ya que la energía se utiliza de manera eficiente, sin desperdicios.
La ventana de operación se amplía: la uniformidad de las dimensiones críticas mejora, ya que el perfil térmico se mantiene constante en cada ciclo. En cuanto al empaquetado, esa misma precisión asegura que la curación de adhesivos y la laminación de películas sean estables, lo que reduce la necesidad de re-trabajo y desperdicios.
Cosas que deben tenerse en cuenta desde el principio La instalación consiste en adaptar las dimensiones del calentador al wafer y alinear el camino del infrarrojo para evitar sombras. Es necesario planificar conexiones eléctricas adecuadas para entornos de sala limpia, y también se debe determinar el presupuesto térmico para las paredes de la cámara.
La onda media funciona muy bien para los wafers, pero no es tan eficaz con sustratos altamente reflectantes. En esos casos, podría ser necesario utilizar un diseño específico para los emisores o ajustar ligeramente los puntos de referencia. Es importante validar el proceso utilizando un wafer con un perfil térmico antes de comenzar a producir, y luego fijar los valores de calibración.