Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Jika Anda pernah bekerja di bidang fabrikasi MEMS, Anda pasti tahu betapa sulitnya proses pengeringan wafer. Ini merupakan hambatan besar dalam proses produksi. Anda perlu menghilangkan cairan yang ada di permukaan wafer, tanpa menyisakan sedikit pun sisa cairan.
Cara yang kami gunakan adalah dengan menggunakan lampu IR berfrekuensi tinggi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini merupakan cara pengeringan yang efektif. Tujuannya adalah agar wafer benar-benar kering, tanpa membuat seluruh ruang pemrosesan menjadi sangat panas.
Mengapa Pemanasan Terarah Itu Efektif
Sebagian besar pemanas bekerja berdasarkan prinsip konveksi. Mereka memanaskan udara terlebih dahulu, lalu udara tersebut memanaskan permukaan wafer. Cara ini lambat dan tidak efisien. Selain itu, cara ini juga menciptakan “dinding panas” di sekitar alat pemrosesan. Tidak ada yang ingin bekerja dengan mesin yang memiliki permukaan panas yang berbahaya.
Itulah mengapa kami beralih ke metode pemanasan terarah menggunakan IR. Radiasi IR bergerak dalam garis lurus. Radiasi ini tidak peduli pada udara di sekitarnya; ia hanya ingin memanaskan permukaan wafer saja. Dengan menggunakan kemasan kuarsa dan reflektor yang cerdas, kita dapat mengarahkan energi tersebut tepat ke permukaan wafer. Hasilnya? Bagian dalam mesin tetap dingin, dan panasnya hanya terfokus pada permukaan wafer saja, bukan pada bagian mesin lainnya.
Daya, Keamanan, dan Masalah Elektrikal
Lampu IR berdaya tinggi ini memiliki kekuatan yang besar. Anda membutuhkan energi sebanyak itu agar proses pengeringan berlangsung lebih cepat. Namun, hal ini bisa menjadi masalah bagi sistem kelistrikan Anda. Jika Anda menggunakan lampu ber tegangan tinggi, Anda harus memastikan bahwa kabel-kabelnya mampu menahan beban tersebut. Jika tidak, maka akan terjadi kerusakan pada komponen elektronik.
Kami juga memfokuskan sinar radiasi agar tidak menyebabkan radiasi “tidak terkontrol”. Ini merupakan langkah keamanan. Operator seharusnya dapat menyentuh sisi mesin tanpa merasa terbakar, bahkan ketika wafer berada pada suhu 150°C.
Kekurangan Metode ini (Karena selalu ada kekurangannya)
Pemanasan terarah bukanlah solusi ajaib. Karena intensitas sinar yang tinggi, hal ini dapat menyebabkan titik-titik panas di permukaan wafer jika wafer tidak diletakkan dengan tepat. Anda perlu sangat memperhatikan jarak fokusnya.
Jika lampu terlalu dekat, wafer bisa rusak. Jika terlalu jauh, waktu pengeringan akan bertambah, sehingga mengurangi efisiensi produksi. Semua ini bergantung pada penemuan keseimbangan antara kecepatan dan keamanan.