Pada jalur produksi berukuran 300 mm, fluktuasi suhu yang disebabkan oleh proses pembersihan akan mengganggu profil lapisan fotoresist sebelum proses pembakaran berikutnya dilakukan. Kami telah merancang lampu inframerah tahan air untuk mengatasi masalah ini. Lampu tersebut dapat menjaga suhu permukaan wafer tetap konstan selama proses pembersihan menggunakan air DI, sehingga dimensi-komponen penting pada wafer tetap sesuai standar yang ditetapkan.
Yang penting secara teknis: Lampu ini bekerja pada rentang gelombang inframerah pendek, sehingga mampu memanaskan permukaan air dan silikon dengan efisien. Selubung kaca kuarsa serta penutup berstandar IP67 memastikan bahwa tidak ada emisi gas atau partikel yang keluar dari lampu tersebut. Di area yang diterangi oleh lampu ini, keseragaman suhu di permukaan wafer tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, sehingga kualitas produk tetap terjaga.
Kontrol atas operasi lampu dilakukan secara langsung, melalui mekanisme umpan balik tertutup. Dengan demikian, output lampu tetap stabil, bahkan ketika tegangan listrik berubah-ubah.
Mengapa lampu ini efektif digunakan di stasiun pembersihan: Di stasiun pembersihan, energi panas sering kali terbuang sia-sia. Dengan lampu ini, suhu pembersihan tidak perlu dikompensasikan lagi melalui proses pembakaran tambahan, sehingga waktu yang dibutuhkan untuk proses pembakaran menjadi lebih singkat. Hal ini mengurangi jumlah produk yang harus diperbaiki, serta meningkatkan stabilitas kualitas produk hasil litografi.
Pemanasan yang dilakukan bersifat lokal, sehingga energi tidak terbuang untuk memanaskan air secara keseluruhan. Keandalan lampu ini telah terbukti di lapangan: lampu ini dapat beroperasi hingga 5.000 jam tanpa penurunan output lebih dari 5%, sehingga mengurangi waktu henti yang tidak diharapkan dan meminimalkan kebutuhan persediaan suku cadang.
Apa yang perlu Anda ketahui sebelumnya: Lampu ini dirancang untuk dipasang secara vertikal atau horizontal di atas area pembersihan. Lampu ini membutuhkan antarmuka daya dan kontrol yang sesuai dengan kondisi lingkungan di stasiun pembersihan. Pastikan ada jarak yang cukup antara lampu dan jalur pergerakan wafer, agar tidak terjadi bayangan yang mengganggu proses pembersihan.
Butuh waktu singkat untuk memanaskan lampu hingga mencapai suhu yang diinginkan. Planlah proses pemanasan tersebut sedemikian rupa agar tidak ada waktu tunggu yang tidak perlu.