ファブ内では、フォトレジストの焼成工程において重要なのは、熱管理です。わずか半度の温度変動だけでCDの均一性が損なわれ、昇温速度が遅いと生産効率が低下します。私たちは、ウェーハの温度管理において余裕がない状況でも、安定した調整可能な加熱を実現するために、このような半導体ヒーターランプを開発しました。
内部で何が重要か 石英製のケース内に短波長のハロゲン発光体を搭載しています。これにより、迅速かつクリーンに加熱が行われ、長時間にわたって安定した性能を維持します。フォトレジストの焼成時の温度制御は非常に精密で、再現性が高く、ウェーハ全体の温度差は±0.1℃以内に抑えられます。また、調光もスムーズでフリッカーがないため、柔らかい条件や厳しい条件での焼成にも対応できます。このシステムはクラス1～100の清浄室で問題なく使用でき、動作中に粒子を発生させません。信頼性も高く、実際には5,000時間以上の運転が可能で、出力の変動は5％未満です。
なぜこのシステムが適しているのか トラック型の焼成装置を使用する場合でも、既存のコーティング/焼成装置に組み込む場合でも、このランプは従来のヒーターに代わって、国際的な半導体装置の基準を満たすものです。これにより、プロセスの再現性が向上し、重要な寸法の制御が容易になります。また、必要に応じて調光できるため、エネルギー消費も削減できます。熱応答が速いため、サイクルタイムも短縮され、計画外の停止も減少します。ケースが冷却状態を保つため、頻繁なオン/オフの繰り返しにも耐えられます。
実用的な詳細 このランプは標準的な工具スペースに収まりますが、所定の均一性を実現するためには、設置時に基板との熱的な接続を確認する必要があります。最良の結果を得るためには、ランプの向きや反射板の形状を焼成プレートに合わせ、電源が完全な調光範囲をカバーできることを確認してください。このランプは、指定された温度や電圧の範囲内で動作します。それ以上の条件では、ランプの寿命が短くなり、熱的安定性も失われます。