製造現場では、わずかな温度の変動だけで多くのウェーハが不良品になってしまいます。ウェーハの乾燥やフォトレジストの加熱処理において、わずかなずれがあっても、数時間後になって初めて欠陥や線幅の変動、歩留まりの低下が現れます。そのため、重要な加熱処理を待たせないように、当社では十分な量のIRランプを常備しています。
技術的に重要な点 当社のIRランプは、短波、中波、カーボンエミッターといったさまざまなタイプが揃っているため、ウェーハの洗浄やリソグラフィーの過程で必要な温度条件を実現できます。迅速な温度上昇により、ウェーハ全体に均一な加熱が可能となり、再現性も高いため、工程のばらつきを防ぐことができます。また、これらのランプはクリーンルームでの使用に適しており、ガス放出量や粒子の発生も少なく、クラス1～100の環境でも問題なく機能します。長時間の使用でも出力が安定しており、既存の装置やインターフェースにも簡単に接続できます。
実際に利用してみてわかる利点 ウェーハの乾燥時には、急速に温度が上昇し、制御された状態で水分を除去できるため、表面にストレスがかかりません。フォトレジストの処理では、一定の温度によって定在波や汚れが減少し、寸法の精度が向上します。その結果、サイクルタイムが予測可能になり、不良品が減少し、余分なエネルギーの消費も抑えられます。また、常備されているランプのおかげで、すぐに交換が可能であり、計画外の停止時間が減少し、スケジュールが乱れることもありません。
苦労して学ぶこと IRシステムでは、光学アライメントや反射器の状態に注意が必要です。わずかな焦点のずれでも、均一性が崩れてしまいます。設置する前に、装置との互換性や冷却要件を確認しましょう。ランプの出力は使用していくうちに変化するため、予防的な交換を計画し、予備のランプを常備しておく必要があります。また、レジストの吸収特性に合わせてスペクトル応答を調整することも不可欠です。設定値を正確に決定するために、事前に短時間のテストを行うべきです。