Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Jika anda pernah bekerja dalam bidang pembuatan MEMS, pasti anda tahu betapa sukarnya untuk mengeringkan wafer tersebut. Ia merupakan halangan besar dalam proses pembuatan MEMS. Anda perlu memastikan cecair pada wafer hilang sepenuhnya, tanpa meninggalkan sebarang sisa.
Cara kami? Kami menggunakan lampu IR berfrekuensi tinggi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini merupakan cara yang efektif untuk mengeringkan wafer tanpa memanaskan seluruh ruang di dalam alat tersebut.
Mengapa Pemanasan Terarah Berkesan
Kebanyakan pemanas bergantung pada proses konveksi. Udara dipanaskan terlebih dahulu, kemudian udara tersebut pula memanaskan permukaan objek yang ingin dipanaskan. Proses ini lambat, membazir tenaga, dan boleh menyebabkan “dinding panas”. Tiada siapa yang mahu bekerja dengan mesin yang boleh menyebabkan bahaya kebakaran.
Itulah sebabnya kami menggunakan pemanasan IR terarah. Sinaran IR bergerak dalam garis lurus. Ia tidak peduli tentang udara; ia hanya ingin memanaskan objek yang dituju. Dengan menggunakan kemasan kuarsa dan reflektor yang bijak, kita dapat mengarahkan semua tenaga tersebut tepat ke permukaan wafer. Hasilnya, bahagian dalaman alat tetap sejuk, dan haba hanya tertumpu pada wafer sahaja.
Kuasa, Keselamatan, dan Masalah Elektrik
Lampu IR berkuasa tinggi ini sangat berkuasa. Anda memerlukan tenaga yang cukup untuk proses pengeringan yang cepat. Namun, ini boleh menjadi masalah bagi sistem elektrik anda. Jika anda menggunakan lampu bervoltaan tinggi, anda perlu memastikan kabel anda mampu menanggung beban tersebut. Jika tidak, anda akan menghadapi risiko kerosakan pada mesin.
Kami juga memastikan pancaran cahaya hanya tertumpu pada wafer sahaja, agar tidak ada pancaran cahaya yang berlebihan. Ini penting dari segi keselamatan. Pekerja harus dapat menyentuh permukaan mesin tanpa menghadapi risiko kebakaran, walaupun suhu wafer mencapai 150°C.
Kekurangan Cara Ini
Pemanasan terarah bukanlah penyelesaian yang sempurna. Memandangkan pancaran cahaya sangat kuat, ia boleh menyebabkan kawasan tertentu menjadi terlalu panas jika wafer tidak diletakkan pada posisi yang tepat. Anda perlu memastikan jarak antara lampu dan wafer adalah sesuai. Jika lampu terlalu dekat, wafer boleh rosak. Jika terlalu jauh, masa pengeringan akan bertambah lama, sehingga mengganggu kelajuan proses pengeringan. Semua ini memerlukan penyesuaian yang tepat agar kelajuan dan keselamatan dapat dicapai bersama-sama.