Pada garisan 300mm, perubahan suhu yang disebabkan oleh proses pembilasan akan menyebabkan perubahan pada profil fotoresist sebelum proses pembakaran seterusnya berlaku. Kami telah mencipta lampu inframerah yang tahan air untuk mengelakkan perubahan tersebut. Lampu ini memastikan permukaan wafer kekal pada suhu yang tetap semasa proses pembilasan menggunakan air DI, agar dimensi kritikal wafer tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Lampu ini beroperasi dalam jalur inframerah gelombang pendek, sehingga dapat memanaskan permukaan air dan silikon dengan efisien. Kulit luar lampu yang diperbuat daripada kuarsa serta casing yang bersertifikat IP67 memastikan bahawa tiada gas atau zarah berbahaya yang keluar dari lampu tersebut. Di kawasan yang diterangi oleh lampu ini, keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan konsistensi antara pelbagai kumpulan wafer juga terjaga.
Kawalan dilakukan secara langsung, dengan adanya mekanisme umpan balik tertutup pada badan lampu. Ini bermakna output lampu tetap stabil walaupun voltan bekalan berubah-ubah.
Mengapa ia berkesan di stesen pembilasan
Stesen pembilasan merupakan tempat di mana tenaga haba hilang begitu saja. Dengan lampu ini, suhu pembilasan tidak lagi memerlukan penyesuaian semasa proses pembakaran, dan masa yang diperlukan untuk proses pembakaran pun menjadi lebih singkat. Ini akan mengurangkan jumlah kerja ulang, sisa bahan yang terbuang, dan memastikan kawalan dimensi wafer yang stabil melalui proses litografi.
Pemanasan dilakukan secara terkawal dan difokuskan pada kawasan yang diperlukan sahaja, jadi tenaga tidak disia-siakan untuk memanaskan air secara keseluruhan. Kebolehpercayaan lampu ini telah terbukti di lapangan: lampu ini boleh beroperasi selama 5,000 jam atau lebih tanpa penurunan output melebihi 5%, sekaligus mengurangkan masa henti yang tidak dijangka dan meminimumkan stok simpanan.
Apa yang perlu anda ketahui terlebih dahulu
Lampu ini direka untuk dipasang secara menegak atau mendatar di atas kawasan pembilasan. Ia memerlukan sumber kuasa dan antaramuka kawalan yang sesuai dengan sistem yang digunakan. Pastikan ada ruang cukup di sekitar wafer agar tidak timbul bayangan yang mengganggu proses pemanasan.
Ada waktu pemanasan sebentar sebelum suhu mencapai tahap yang diinginkan. Rancanglah proses pemanasan ini dengan baik agar tidak ada masa pembaziran.