Op de 300mm-linie zorgen deze door het spoelen veroorzaakte temperatuurschommelingen er voor dat het profiel van de fotorezist verandert, nog voordat er opnieuw wordt gebakken. We hebben een waterdichte infraroodlamp ontworpen om deze variabiliteit te voorkomen. De lamp houdt het oppervlak van de wafer op een constante temperatuur tijdens de reinigingsprocessen, zodat de cruciale afmetingen binnen de vereiste grenzen blijven.
Wat technisch belangrijk is:
De lamp werkt in het kortegolfgolflengtegebied van infraroodlicht. Hierdoor kan het licht effectief worden overgedragen naar water en silicium, waardoor het oppervlak snel wordt opgewarmd. De kwartsomhulling en de IP67-beugel zijn ontworpen voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100: er komt geen gas vrij en er zijn geen deeltjesontstoppelingen. In het verlichte gebied blijft de uniformiteit van het oppervlak op ±0,1°C, waardoor de reproduceerbaarheid tussen verschillende producties constant blijft.
De controle van de lamp gebeurt via een gesloten regelsysteem. Dit zorgt voor een stabiele uitgangsspanning, zelfs wanneer de spanning fluctueert.
Waarom het werkt in de spoelstationen:
In spoelstationen wordt vaak veel energie verbruikt aan het opwarmen van het water. Met deze lamp hoeft u niet meer te compenseren met een mildere baktemperatuur. Hierdoor wordt de tijd die nodig is voor het bakken verkort. U ziet minder producten die herwerkt moeten worden, minder afval en een stabiele controle van de afmetingen tijdens het lithografische proces.
Het opwarmen vindt plaats op moment van gebruik en is gericht op het gewenste gebied. Hierdoor wordt geen energie verspild aan het opwarmen van het hele wateroppervlak. De betrouwbaarheid van de lamp is bewezen: ze werken meer dan 5.000 uur zonder dat de uitgangsspanning met meer dan 5% daalt. Dit vermindert onverwachte stilstandstijden en de noodzaak tot het bestellen van extra onderdelen.
Wat u van tevoren moet weten:
De lamp kan zowel verticaal als horizontaal worden geplaatst boven het spoelgebied. Er is ook een aparte stroom- en bedieningsinterface nodig die is afgestemd op het spoelstation. Houd voldoende afstand tot het pad van de wafer, zodat er geen schaduwen ontstaan.
Er is een korte opwarmtijd nodig om de gewenste temperatuur te bereiken. Plan deze tijd goed in het proces, zodat er geen onnodige stilstand optreedt.