Trên dây chuyền sản xuất có độ dài 300mm, những biến đổi nhiệt độ do quá trình rửa gây ra sẽ làm thay đổi đặc tính của lớp phim bảo vệ bề mặt wafer trước khi tiến hành công đoạn nung tiếp theo. Chúng tôi đã chế tạo ra loại đèn hồng ngoại chống nước để loại bỏ những biến động này. Đèn này giúp duy trì nhiệt độ ổn định trên bề mặt wafer trong suốt quá trình rửa, từ đó giúp các kích thước quan trọng của wafer vẫn nằm trong giới hạn cho phép.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật Đèn hoạt động trong dải sóng hồng ngoại ngắn, giúp truyền nhiệt hiệu quả vào nước và silicon, từ đó làm nóng bề mặt wafer một cách nhanh chóng. Vỏ đèn được làm từ thạch anh và có khả năng chống nước theo tiêu chuẩn IP67; điều này giúp đảm bảo không có khí thoát ra ngoài hay các hạt bụi xuất hiện trong môi trường làm việc. Trong vùng được chiếu sáng, độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer duy trì ở mức ±0,1°C, và độ lặp lại giữa các lô sản phẩm cũng rất ổn định.
Việc kiểm soát nhiệt độ được thực hiện một cách trực tiếp, thông qua hệ thống phản hồi khép kín. Điều này giúp duy trì độ ổn định của nhiệt độ ngay cả khi điện áp trong mạch điện thay đổi.
Tại sao đèn này hiệu quả trong quá trình rửa Trong quá trình rửa, nhiệt độ có thể gây ra nhiều biến động. Với chiếc đèn này, bạn không cần phải điều chỉnh nhiệt độ trong quá trình nung nữa; thời gian nung cũng được rút ngắn. Nhờ đó, số lượng sản phẩm cần sửa chữa giảm đi, tỷ lệ phế phẩm giảm, và việc kiểm soát kích thước wafer cũng trở nên ổn định hơn.
Quá trình làm nóng diễn ra một cách có kiểm soát, vì vậy bạn không lãng phí năng lượng vào việc làm nóng toàn bộ khối nước. Độ tin cậy của đèn đã được chứng minh qua thực tế: đèn có thể hoạt động liên tục trong 5.000 giờ mà tỷ lệ suy giảm hiệu suất chỉ dưới 5%, điều này giúp giảm thời gian ngừng máy và giảm chi phí dự trữ linh kiện.
Những điều bạn cần biết trước khi sử dụng Đèn này có thể được lắp đặt theo chiều dọc hoặc chiều ngang trên khu vực rửa. Nó cần có bộ nguồn và bộ điều khiển riêng, phù hợp với môi trường làm việc. Hãy đảm bảo khoảng cách giữa đèn và bề mặt wafer vừa đủ để tránh tạo ra bóng tối trên bề mặt wafer.
Đèn cần thời gian khởi động ngắn để đạt đến nhiệt độ mong muốn. Hãy lên kế hoạch cho quá trình khởi động này sao cho không gây ra thời gian chờ không cần thiết.