In der Fertigungshalle werden während des Backvorgangs die thermischen Bedingungen festgelegt – ganz gleich, ob positiv oder negativ. Eine Abweichung von 2°C beim Weichen- oder Hartbacken führt zu Veränderungen der kritischen Abmessungen. Wenn während des Prozesses Partikel auftauchen, ist das Produkt unbrauchbar. Herkömmliche Heizsysteme können die Anforderungen an eine präzise Temperaturkontrolle nicht erfüllen, ohne dass man zwischen Geschwindigkeit und Kontrolle entscheiden muss.
Was wirklich wichtig ist Mittelwellen-Infrarotheizer leiten Energie direkt in die Wafer ein – dabei wird ein Spektrum verwendet, das mit der Absorptionsfähigkeit des Siliziums übereinstimmt. Dadurch entsteht eine schnelle thermische Reaktion sowie eine präzise Steuerung der Temperatur. Wir halten die Homogenität der Temperatur über die gesamte Fläche der Wafer auf ±0,1°C. Die Einstellungen bleiben dabei innerhalb von 0,2°C reproduzierbar.
Der gesamte Aufbau ist für Reinräume geeignet – er entspricht den Anforderungen der Klasse 1–100. Dabei werden Materialien mit geringer Gaseemission verwendet, und der Aufbau sorgt dafür, dass keine Partikel in den Prozess eindringen können. Die Anzahl der Partikel bleibt während des Backvorgangs unter 0,3 Partikeln/cm². Das System arbeitet 24/7 ohne Unterbrechungen – und das thermische Profil bleibt über Tausende von Zyklen hinweg stabil.
Warum das zu unserem Arbeitsstil passt In den Lithografieanlagen verkürzen diese Heizer die Backzeit, ohne das thermische Profil zu beeinträchtigen. Dadurch steigt die Durchsatzrate, und die Parameter des Fotolacks bleiben innerhalb der Spezifikationen. Der Energieverbrauch sinkt im Vergleich zu breitbandigen Quellen, da die Energie genau auf den Prozess abgestimmt ist – sie wird nicht für unnötige Erwärmungen verschwendet.
Das Prozessfenster wird dadurch erweitert: Die Homogenität der kritischen Abmessungen verbessert sich, da das thermische Profil bei jedem Durchlauf konstant bleibt. In der Verpackungsindustrie sorgt diese Präzision dafür, dass die Aushärtung von Klebstoffen sowie die Laminierung von Folien stabil bleibt – das bedeutet weniger Nacharbeiten und weniger Ausschuss.
Was man unbedingt berücksichtigen sollte Bei der Installation muss der Platzbedarf der Heizgeräte an den Chuck angepasst werden, außerdem muss der Infrarotstrahl so ausgerichtet werden, dass es zu keinen Schattenbildung kommt. Es sind außerdem Strom- und Steueranschlüsse erforderlich, die den Anforderungen von Reinräumen entsprechen. Zudem muss das thermische Profil der Kammerwände berücksichtigt werden.
Mittelwellen eignen sich hervorragend für Wafer – doch bei hochreflektierenden Substraten ist ihre Wirkung begrenzt. In solchen Fällen kann ein speziell angepassterEmitter oder eine kleine Anpassung der Einstellungen notwendig sein. Vor der Verwendung sollte das Rezept mit einem Thermoprofil der Wafer überprüft werden – anschließend kann die Kalibrierung fixiert werden.