ייבוש שבבי MEMS ללא בעיות
אם עבדתם אי פעם בייצור שבבי MEMS, אתם מכירים את הקשיים בייבוש השבבים. זו באמת בעיה גדולה – צריך להסיר את הנוזלים מהשבב, ולעשות זאת בלי להשאיר שום שאריות.
הגישה שלנו? אנו משתמשים בפנסי אינפרא-אדום בגלים קצרים כדי לחמם את פני השטח של השבב ישירות. זו בעצם שיטה של אידוי מהיר. המטרה היא להפוך את השבב ליבש לחלוטין, מבלי שכל חדר העבודה יהפוך לסאונה.
למה חימום מוכוון עובד כל כך טוב
רוב המקורות לחימום מסתמכים על תהליך של חימום האוויר, ואז האוויר מחמם את החלק הרצוי. זה איטי, זה מבזבז אנרגיה, וזה יוצר “קירות חמים”. אף אחד לא רוצה לעבוד עם מכשיר שהמעטפת החיצונית שלו מהווה סכנת שריפה.
לכן עברנו לשימוש בחימום מוכוון באמצעות אינפרא-אדום. קרינת האינפרא-אדום נעה בקו ישר – היא לא מתחשבת באוויר, אלא רוצה רק לחמם את המטרה. באמצעות שימוש במעטפות קוורץ ומחזירים חכמים, אנו יכולים להפנות את כל האנרגיה לדיוק למטרה. התוצאה? החלק הפנימי של המכשיר נשאר קר, והחום נשאר בדיוק במקום הנכון – על השבב, ולא על המכשיר עצמו.
אנרגיה, בטיחות והבעיות החשמליות
פנסי האינפרא-אדום האלה יוצרים כמות גדולה של אנרגיה. צריך אנרגיה כזו כדי להשיג תהליכי ייבוש מהירים, אך זה יכול להוות בעיה למערכת החשמלית של המכשיר. אם משתמשים בפנסים במתח גבוה, צריך לוודא שהחוטים של המכשיר יכולים לעמוד בעומס. אחרת, עלול להיות שהמכשיר יישרף.
אנו גם מכוונים את קרני האינפרא-אדום כדי למנוע קרינה לא רצויה. זו שאלה של בטיחות – המפעיל צריך להיות מסוגל לגעת בחלקי המכשיר מבלי לסבול מכוויות, גם כשהשבב נמצא בטמפרטורה של 150°C.
החיסרון (כי תמיד יש אחד)
חימום מוכוון אינו פתרון מושלם. מכיוון שקרני האינפרא-אדום חזקות מאוד, הן עלולות ליצור נקודות חם במקומות מסוימים על השבב, אם השבב לא נמצא במיקום הנכון. צריך להיות קפדניים לגבי אורך הפוקוס. אם הפנס נמצא קרוב מדי, השבב עלול להתעוות. אם הוא רחוק מדי, זמן הייבוש יאריך, וזה יפגע ביעילות המכשיר. זה כל עניין של מציאת האיזון הנכון בין מהירות לבטיחות.