ファブ内では、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際に0.2℃でも温度が変動すれば、ウェハの寸法が変わってしまい、そのロットは再加工が必要になります。従来のオーブンでは、熱の慣性や空気中の粒子の影響を克服するのが難しく、結果として廃棄されるロットが発生し、生産スケジュールに支障が出ます。
重要なのは内部構造です
私たちは、短波長のクォーツ赤外線エミッターを利用したクリーンルーム用オーブンを開発しました。このエネルギーは直接ウェハに届くため、チャンバー全体が過度に加熱されることなく、迅速に所定の温度に到達します。また、ウェハ上の温度均一性は±0.1℃以内を維持し、ロット間の再現性も高いです。これはリソグラフィーにおいて、オーバーレイやCDの精度を保つために不可欠な要素です。
このヒーターは、クラス1～100のクリーンルームで使用でき、粒子の発生もありません。これは、リアルタイム監視によって確認されています。ガスの放出や汚染も一切ありません。制御機能は、精密なソフトベイクやハードベイクを実現するように調整されており、設定値は保存され、追跡が可能です。
迅速な温度調整と最小限の待機時の発熱により、エネルギー消費量も削減されます。信頼性も高く、24時間365日の運転に耐えられるように設計されており、メンテナンスも計画しやすいです。
なぜウェハ製造やパッケージングに適しているのか
フォトレジストでもポリイミドでも、熱管理は非常に重要です。この赤外線ヒーターを使えば、安定した加熱性能、短縮されたサイクルタイム、そして温度の乱れが少なくなります。その結果、初回の歩留まりが向上し、廃棄ロットが減り、1枚あたりのコストも下がります。
また、この装置はクリーンルーム向けに設計されているため、粒子数も少なく抑えられます。これは、歩留まりが極めて低い先端ノードや微細ピッチのパッケージングにおいて重要です。
導入時や稼働開始時に注意すべき点
クリーンルーム仕様の電源と接地が必要です。また、エミッターアレイには適切な間隔が必要で、そうすれば全体的な温度均一性が保たれます。負荷密度によってプロファイルが変わるため、ウェハの種類に合わせて装置を調整する必要があります。
特定のフォトレジストや加熱手順に最適化するために、短期間の試運転が必要です。