300mmラインでは、洗浄によって生じる熱変動が、次の焼成処理を行う前にフォトレジストの特性を悪化させてしまいます。そうした変動を防ぐために、防水仕様の赤外線洗浄ランプを開発しました。このランプにより、DI水を使用する間もウェーハ表面の温度が一定に保たれ、重要な寸法も規格内に留まります。
技術的に重要な点 このランプは短波長の赤外線を利用しており、水やシリコンに効率的に熱を伝え、表面を迅速に加熱します。石英製のケースとIP67等級の耐湿性の高い筐体により、クラス1～100の清浄室での使用が可能です。ガスの放出や粒子の発生もありません。照明範囲内では、ウェーハ表面の温度偏差は±0.1℃以内に抑えられ、ロット間の再現性も良好です。
制御は直接行われ、ランプ本体にフィードバック回路が搭載されているため、ライン電圧が変動しても安定した出力が得られます。
なぜ洗浄ステーションで効果的か 洗浄ステーションでは、熱エネルギーが無駄に消費されがちです。このランプを使えば、洗浄時の温度によってソフトバーン処理で補正を行う必要がなくなり、ハードバーン処理の時間も短縮されます。その結果、再作業が減り、スクラップが減少し、リソグラフィーによる寸法管理も安定します。
加熱は必要な時だけ行われ、局所的に行われるため、水全体を加熱するためのエネルギーの無駄がありません。信頼性も実証済みで、5,000時間以上使用しても出力の低下は5％未満です。これにより、予期しない停止時間が削減され、予備部品の在庫も減少します。
事前に知っておくべきこと このランプは、洗浄ステーション上に垂直または水平に取り付けるように設計されています。また、ウェットベンチに合った専用の電源および制御インターフェースが必要です。ウェーハの通過経路に遮蔽が生じないように、適切な間隔を確保してください。
温度が所定値に達するまでにはわずかな暖機時間がかかります。そのため、プロセスフローに合わせて段階的に温度を上げるように計画する必要があります。