Op de productieafdeling is één watermerk na het schoonmaken al voldoende om een wafer onbruikbaar te maken. Het droogproces na het schoonmaken is geen tussentijdje – het moet volgens strikte specificaties worden uitgevoerd. We hebben onze drooglampen zo ontworpen dat ze de benodigde temperatuur precies op het juiste moment kunnen leveren, net nadat de wafer is schoongemaakt.
Wat technisch gezien belangrijk is: We regelen het droogproces met behulp van kortegolf- en middengolf-infraroodstraling in kwartslampen. Het doel is snelle, gecontroleerde verwarming, zonder dat de fotoresist wordt beschadigd. De temperatuurvariatie blijft binnen ±0,1°C over de hele wafer. Hierdoor blijven de cruciale afmetingen constant. Het systeem werkt schoon: er wordt geen vuil geproduceerd, en het kan worden gebruikt in zuiverruimtes van klasse 1–100. De stabiliteit blijft boven de 5.000 uur, met minder dan 5% daling van de temperatuur. Hierdoor kan het systeem 24/7 draaien zonder problemen.
Waarom het geschikt is voor echte productiebedrijven: Na het schoonmaken moet de wafer zo snel mogelijk drogen, zodat er geen restanten van vocht of nieuwe vervuilingen achterblijven. Onze lampen verwijderen dit vocht snel, terwijl de fotoresist intact blijft voor de verdere bewerkingen. Hierdoor zijn de cyclustijden korter, wordt er minder energie verbruikt per batch, en zijn er minder lampwisselingen nodig. De temperatuur blijft onder controle, waardoor er minder defecten optreden tijdens het droogproces.
Praktische details: Deze lampen hebben speciale houders en zuivere stroom nodig. Zorg ervoor dat de spanning en de verbindingen compatibel zijn met uw apparatuur. Er is een korte opwarmtijd nodig om het spectrum en de temperatuur op het juiste niveau te krijgen. Plan de integratie van tevoren, zodat de lampen goed geplaatst zijn en parallel aan de wafer lopen. Houd ook de ramen van de lampen schoon tijdens depreventieve onderhoudswerkzaamheden.