팹에서는 포토레지스트를 건조하는 과정 중 웨이퍼 전체에 걸쳐 0.5°C 정도의 온도 차이가 생기면, 선폭 제어가 되지 않아 수율이 떨어질 수 있습니다. 경화 램프에 사용되는 반사판은 단순한 부품이 아닙니다. 이 반사판은 공정이 매번 일관되게 진행될 수 있도록 열 분포를 조절해줍니다.
우리는 웨이퍼 경화 램프용 반사판을 설계할 때 ±0.1°C의 온도 균일성을 유지하도록 했습니다. 그렇게 하면 소프트 베이크와 하드 베이크 과정도 정확하게 진행됩니다.
고순도 석영으로 만들어진 반사판에는 단파 및 중파 적외선에 반응하는 코팅이 적용되어 있습니다. 이를 통해 안정적이고 일관된 에너지 분배가 가능해지며, 포토레지스트의 열적 특성도 잘 유지됩니다.
이 장비는 클래스 1–100급 청정실에서도 사용할 수 있으며, 가스 방출이 적은 재료로 제작되어 입자 발생을 최소화합니다. 24/7 연속運転이 가능하며, 5,000시간 이상 사용해도 강도 변화가 5% 미만입니다.
리소그래피에서 온도 균일성은 CD 제어에 있어 매우 중요합니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 ±0.1°C의 온도 차이가 있다면, 에지 영역의 결함을 줄이고 치명적인 크기 변동도 줄일 수 있습니다.
반사판의 깨끗한 표면 덕분에 재작업이 줄어들고, 검증 과정도 단축됩니다. 또한 열이 필요한 곳에만 집중되므로 에너지 소비도 줄어듭니다. 포토레지스트 처리 시에는 폐기되는 웨이퍼의 양이 줄어들고, 예측 가능한 수율을 얻을 수 있습니다.
설치 시에는 램프의 방향과 공기 흐름을 고려해야 합니다. 반사판은 지정된 온도 균일성을 유지하기 위해 0.5° 이내로 정렬되어야 합니다. 정렬이 잘못되면 등온선이 변동됩니다.
이 반사판은 표준 할로겐 및 NIR 경화 램프에도 사용할 수 있지만, 리프트오프 키트는 모델에 따라 다릅니다. 교체 후에는 공정을 다시 조정하기 위해 짧은 시간 동안 열처리를 해주는 것이 좋습니다.