Di fasiliti pengeluaran wafer, prosesnya memang sudah diketahui: sedikit perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi penting wafer tersebut, sehingga memerlukan wafer tersebut diproses semula. Ketuhar konvensional sukar untuk mengatasi masalah inersia haba dan zarah-zarah yang terdapat di udara. Setiap wafer yang rosak akan menyebabkan kehilangan kapasiti pengeluaran dan kelewatan jadual pengeluaran.
Apa yang penting di belakang tabir
Kami membina ketuhar ini menggunakan pemancar inframerah kuarsa berfrekuensi rendah. Tenaga yang dihasilkan disalurkan terus ke wafer, sehingga suhu dapat dicapai dengan cepat tanpa perlu memanaskan keseluruhan ruang ketuhar. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikekalkan pada ±0.1°C, dan konsistensi hasil pengeluaran juga tetap tinggi dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Inilah yang diperlukan untuk mengawal ketepatan lapisan bahan pada wafer semasa proses litografi.
Pemanas ini berfungsi dalam lingkungan bilik bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan sebarang zarah. Tiada pelepasan gas, tiada pencemaran. Sistem kawalan pemanas ini direka untuk memberikan prestasi pemanasan yang tepat, dengan rekod penggunaan yang lengkap untuk tujuan penjejakan.
Penggunaan tenaga dapat dikurangkan kerana proses penurunan suhu yang cepat serta penggunaan tenaga minimum semasa waktu menunggu. Kebolehpercayaan pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan jadual penyelenggaraan yang boleh dirancang terlebih dahulu.
Mengapa ia sesuai untuk fasiliti pengeluaran wafer dan pembungkusan
Kontrol suhu sangat penting, sama ada semasa memproses bahan photoresist mahupun polimer. Dengan pemanas inframerah ini, prestasi pemanasan akan lebih stabil, masa proses menjadi lebih singkat, dan kesilapan semasa proses pengeluaran berkurangan. Ini bermakna kadar kejayaan pengeluaran wafer akan meningkat, sisa produk berkurangan, dan kos pengeluaran wafer pun turun.
Selain itu, reka bentuk pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih, sehingga jumlah zarah yang terhasil tetap rendah. Ini sangat penting untuk proses pengeluaran wafer yang memerlukan ketepatan yang tinggi.
Apa yang perlu dipertimbangkan semasa pemasangan
Anda memerlukan bekalan kuasa yang sesuai untuk bilik bersih, serta sistem penghubung yang baik. Pemancar inframerah juga perlu diletakkan pada jarak yang sesuai agar suhu dapat dikekalkan secara seragam di seluruh permukaan wafer. Kepadatan beban juga mempengaruhi profil suhu, jadi pastikan pemanas disesuaikan dengan jenis wafer yang digunakan.
Rancangkan masa yang singkat untuk proses penyesuaian pemanas, agar parameter pengeluaran dapat ditentukan dengan tepat.