제조 공정에서는, 세척 후에 단 한 방울의 물만 있어도 웨이퍼가 손상될 수 있습니다. 세척 후 건조 과정도 단순한 휴식 시간이 아니라, 매우 중요한 공정 단계입니다. 우리는 웨이퍼 건조용 램프를 설계할 때, 세척 직후에 필요한 정확한 온도 조절을 실현할 수 있도록 했습니다.
기술적으로 중요한 점들 우리는 쿼츠 램프를 활용하여 단파 및 중파 적외선을 이용해 건조 과정을 조절합니다. 목표는 빠르고 정밀하게 가열하는 것이며, 동시에 포토레지스트가 손상되지 않도록 하는 것입니다. 웨이퍼 전체의 온도 변동폭은 ±0.1°C 이내이며, 균일성도 매우 뛰어나서 치명적인 오차가 발생하지 않습니다. 이 시스템은 설계상으로도 깨끗한 상태를 유지하며, 입자 생성도 없습니다. 또한, 1–100등급의 청정실에서도 원활하게 작동합니다. 안정성도 5,000시간 이상 지속되며, 온도 하강률은 5% 미만입니다. 따라서 24시간 연속으로 작동해도 문제가 없습니다.
실제 제조 공장에서의 장점 세척 후에는 웨이퍼에 잔류 수분이나 새로운 오염물이 전혀 없어야 합니다. 우리의 램프는 그러한 수분을 빠르게 제거해주면서도, 포토레지스트가 손상되지 않도록 합니다. 그 결과, 공정 주기가 단축되고, 에너지 소비도 줄어듭니다. 또한, 램프 교체 횟수도 줄어듭니다. 온도 제어가 잘 되므로 공정의 정밀도가 높아지고, 건조 과정에서 발생하는 결함도 줄어듭니다.
실제 사용 시 고려해야 할 사항들 이 램프들은 적절한 부품과 깨끗한 전력 공급이 필요합니다. 전압과 커넥터의 호환성이 장비나 코팅/건조 플랫폼과 일치하는지 확인해야 합니다. 스펙트럼과 온도가 안정될 때까지 약간의 시간이 필요합니다. 램프가 웨이퍼 경로에 정확하게 위치하도록 미리 계획을 세워야 하며, 예방적 유지보수 시에는 램프 창에 잔여물이 남지 않도록 해야 합니다.