300mm 생산 라인에서는, 세척 과정에서 발생하는 열 변동으로 인해 다음 굽기 과정이 시작되기 전에 포토레지스트의 특성이 변할 수 있습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 저희는 방수 기능을 갖춘 적외선 세척 램프를 개발했습니다. 이 램프는 DI 물로 세척하는 동안 웨이퍼 표면의 온도를 일정하게 유지시켜 주므로, 웨이퍼의 치수가 정확하게 유지됩니다.
기술적으로 중요한 점들 이 램프는 단파 적외선 영역에서 작동하여 물과 실리콘에 효율적으로 에너지를 전달함으로써 표면을 빠르게 가열합니다. 석영 커버와 IP67 등급의 방수 하우징 덕분에 클래스 1–100급 청정실 환경에서도 문제없이 사용될 수 있습니다. 조명된 영역 내에서는 웨이퍼 표면의 온도가 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지되며, 로트 간의 반복성도 일관됩니다.
램프 자체에는 피드백 제어 기능이 있어서, 전압이 변동해도 안정적인 출력을 보장합니다.
세척 스테이션에서 왜 효과적인가? 세척 스테이션에서는 열에 의한 부정적인 영향이 발생하기 쉽습니다. 이 램프를 사용하면 세척 온도로 인해 추가적인 보정이 필요하지 않으며, 굽기 과정도 보다 효율적으로 진행됩니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고 폐기물도 감소하며, 리소그래피 과정에서도 웨이퍼의 치수가 안정적으로 유지됩니다.
가열은 필요할 때만 이루어지며, 특정 부위에만 집중되므로 불필요하게 많은 에너지가 소모되지 않습니다. 실제 현장에서도 5,000시간 이상 사용해도 출력 감소율이 5% 미만이므로, 계획되지 않은 가동 중단이 줄어들고 예비 부품도 줄어듭니다.
미리 알아두어야 할 사항들 이 램프는 세척 구역 위에 수직이나 수평으로 설치될 수 있으며, 적절한 전원 및 제어 인터페이스가 필요합니다. 웨이퍼가 지나가는 경로와의 거리를 충분히 확보해야 하며, 그렇지 않으면 그림자가 생길 수 있습니다.
열이 안정된 상태가 되기까지 약간의 시간이 필요하므로, 공정 흐름에 맞춰 점차적으로 온도를 높여야 합니다.