もう、ヒーターを待っている時間を無駄にしないでください。オゾンフリーの赤外線ランプを使えば、より効率的に作業できます。
もし依然として半導体処理に熱風循環方式を使っているのであれば、おそらく多くの時間を「待つ」ことに費やしているはずです。チャンバーが十分に温まるのを待つ、加熱された空気が基板に十分に伝わるのを待つ……。これは大きなボトルネックとなり、利益を削ってしまいます。
オゾンフリーの赤外線ランプに切り替えることは、些細な改良ではありません。それは、作業の進め方自体を根本から変えることに他なりません。
強制送風方式の問題点は単純です。つまり、間接的な加熱方式だからです。 まず空気を加熱し、その後でその空気が部品を加熱する必要があります。これは遅いプロセスです。一方、赤外線方式は異なります。電磁波を直接対象物に当てるので、スイッチを入れるとすぐに加熱が始まります。
そして最も良い点は、このランプはオゾンを発生させないということです。O2をO3に変換しない波長で動作するので、敏感な化学層が損傷したり、工具が腐食したりする心配がありません。
また、占有スペースも削減できます。 赤外線方式なら、特定の部分だけを加熱するために全体を加熱する必要はありません。正確に加熱が必要な場所だけをターゲットにできます。これにより、煩わしい「ウォームアップラグ」がなくなり、瞬時に所定の温度に到達できます。
1時間あたりの処理量が増え、無駄なスペースも減ります。それだけです。
もちろん、完璧なわけではありません。注意すべき点もいくつかあります。 高密度の赤外線は、反射板に大きな負荷をかけます。反射板が鏡のように磨かれていなければ、効率が低下してしまいます。
また、加熱が非常に速いため、PIDコントローラーの設定が不適切だと、目標温度を超えてしまう可能性があります。そのため、基板が損傷しないように、迅速に反応するセンサーが必要です。
私たちは、古い対流式ヒーターの代替品として、このランプを開発しました。放射エネルギーの速さを得ながら、汚染の心配もありません。処理能力を向上させたいのであれば、これが最善の方法です。