ウェーハの表面でエネルギーを無駄にしないようにしましょう。 シリコンウェーハを加熱するとき、無駄になる1ワットごとが、実質的にはお金の損失となります。一般的な反射板はあまり効果的ではなく、エネルギーがターゲットに届かずに筐体内に逃げてしまいます。 だからこそ、私たちは金を使用するのです。 聞こえは...

なぜウェーハを加熱するのに金が使われるのか 半導体ウェーハを加熱するとき、より多くの電力を使えばいいと思いがちです。しかし、実際に重要なのは単純なワット数ではありません。本当に重要なのは、そのエネルギーのうちどれだけが実際に基板に届くかということです。 問題は、一般的な石英ランプには熱が漏れやすい...

半導体製造工場における炭素排出量の削減：ウェーハを加熱するより効率的な方法 もし本当に半導体製造工場で炭素中性を実現したいのであれば、ウェーハの加熱や硬化のために無駄にエネルギーを消費することをやめなければなりません。 一般的な抵抗式ヒーターは、エネルギーを無駄に散逸させてしまいます。実際に必要な...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つ方法（ウェハーを加熱している間も） クラス100の環境で作業を行うときは、ほこりと戦っているようなものです。わずかなほこりの粒子があっただけで、作業したウェハー全体が台無しになってしまいます。 問題は、ウェハーを加熱するとき、危険なのは温度だけでは...

製造現場では、洗浄後にわずかな水分が残っているだけで、ウェーハが破損してしまいます。洗浄後の乾燥工程は単なる休憩時間ではなく、厳格な仕様が求められます。私たちは、ウェーハを迅速かつ適切に乾燥させるためのランプを開発しました。これにより、湿式洗浄直後に必要な熱制御が実現されます。 技術的に重要な点...

製造現場において、加熱処理の工程こそが、熱的な制約条件を決定する重要な要素となります。ソフトベイクやハードベイクの温度が2°C変動するだけで、ウェーハの寸法に影響が出ます。また、加熱の過程で粒子が発生してしまうと、そのロットは廃棄されてしまいます。従来の加熱方式では、高度なノードで求められる微小な...

ファブの現場では、フォトレジストを焼成する際にウェーハ全体で0.5℃もの温度差が生じると、線幅の制御がうまくいかず、結果として歩留まりが悪くなってしまいます。硬化ランプ内の反射板は、単なる部品ではありません。それは、工程を繰り返しても再現性のある熱分布を実現するための重要な要素です。 私たちは、ウ...