ファブ内での炭素削減：なぜ私たちが赤外線加熱に切り替えているのか クリーンルームで作業したことがある人なら、その状況はよくわかるでしょう。ウェーハや基板を自由に動かすことはできず、一定の温度を保つ必要があります。そうしなければ、結露や熱衝撃が起こり、それは誰も望まない最悪の事態です。 最近では、「...

金メッキを施したIRランプで安全を守る 半導体製造の現場で働いたことがある人なら、その厳しさはよくわかるでしょう。そこでは、反応性が高く、不安定な化学物質を扱わなければなりません。状況が悪化すると、爆発する可能性もあります。では、そんな環境に高温のIRランプを使ったらどうなるでしょうか？ 普通の石...

赤外線半導体ヒーターにおける適切な温度制御 もし、半導体製造工場での二酸化炭素排出を減らしたいのであれば、古くから使われてきた抵抗式ヒーターに頼るのはやめなければなりません。そのようなヒーターでは温度上昇が遅すぎます。そこで、赤外線ランプシステムを利用するようになりました。これらのシステムなら、目...

半導体製造装置の熱が漏れ出るのを防ぎましょう。 一度、装置の表面に触れてびっくりしたことはありませんか？それは「ホットウォール現象」です。これは、通常の対流加熱方式を使っている場合に起こります。つまり、空気を温めたり、熱をあちこちに放出する素子を使ったりするわけです。これはエネルギーの無駄遣いであ...

半導体洗浄環境におけるエンジニアリング上の安全性 半導体製造において、最も危険なのは化学薬品を使った洗浄工程です。これらの化学薬品は揮発性があり、燃えやすく、予測不可能な性質を持っています。通常の加熱要素では、そうした環境での使用は不可能です。 そこで私たちは、そうした危険な環境でも問題なく動作す...

ファブ内では、フォトレジストの焼成工程において重要なのは、熱管理です。わずか半度の温度変動だけでCDの均一性が損なわれ、昇温速度が遅いと生産効率が低下します。私たちは、ウェーハの温度管理において余裕がない状況でも、安定した調整可能な加熱を実現するために、このような半導体ヒーターランプを開発しました...

ウェハーフロア上では、フォトレジスト処理中の熱ドリフトは単なる学術的な問題ではなく、ライン歩留まりに大きく影響する。ソフトベイク時に2℃の変動があると、フォトレジストのプロファイル全体が傾き、CDのバラつきやスカムが速やかに現れる。弊社は半導体用途向けに赤外線ランプを設計しており、必要な部分に正確...